光敏抗蚀干膜

    光敏抗蚀干膜 : 光 敏抗蚀干膜简称干膜,有溶剂型和水溶性两 种不同类型。它们是一种由聚酯薄膜、感光 层和聚乙烯薄膜三合一的感光膜。中间的感 光层由成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂 和多种助剂组成。
溶剂型干膜的制法是将感光层的各种组 分溶解于溶剂中配成胶液,在一定温度下涂 布于聚酯薄膜上,加热干燥得到感光膜层,再 在上面复辊一层聚乙烯薄膜,收卷成筒,包 装即成产品。使用时先将聚乙烯保护膜撕去, 通过热压将感光层粘压到敷铜板上,再经紫 外光曝光,采用三氯乙烷,二甲苯、酯酸丁 酯等有机溶剂显影。显影时未感光的部分被 洗去,感光部分粘附在金属表面形成图形,起 抗蚀抗电镀作用。干膜涂布均匀,涂层较厚, 图形边缘线条陡直,提供了很高的分辨率。抗 蚀性能强,可耐碱、酸性腐蚀和电镀,性能 稳定可靠。用于双面或多层电路板的生产及 制作精密的耐腐蚀耐电镀图形。其稳定性好 于水溶性干膜。但由于采用溶剂显影,成本 高、毒性大、操作不便、污染环境,逐步被 水溶性光敏抗蚀干膜所替代。
水溶性光敏抗蚀干膜 (aqueous dry film photoresist)其产品结构、制造方法、使用方 法、产品性能与溶剂型光敏抗蚀干膜类似。不 同之处在于感光层由水性基团的成膜树脂、 光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成,采 用稀碱溶液显影和去膜,改善了生产环境,使 用安全,三废容易处理,耐各种酸性蚀刻液 和耐酸性镀铜,镀铅锡合金。广泛应用于各 种高精度、高密度、高可靠性的双面孔金属 化印制电路板与多层印制板的生产和制造及 制作精密的耐腐蚀、耐电镀图形,也可用于 化学蚀刻法制造精密的金属零件和 图形。