光致抗蚀材料

    光致抗蚀材料 : 光致抗蚀 材料是感光性树脂中的一种。在某些精密加 工中,需要在金属表面进行选择性刻蚀。为 此,必须将不该腐蚀的部分保护起来,如把 某些感光性树脂以一定厚度均匀涂布在被加 工物体的表面,然后通过所需图形进行曝光。 由于受光部分与未受光部分发生溶解度差 别,所以曝光后用适当溶剂显影,即可得到 由感光性树脂组成的图形,而将待腐蚀的表 面暴露出来。经腐蚀后除掉抗蚀膜,就在被 加工物件的表面上得到所需的图形。这类感 光性树脂称为光致抗蚀剂。正性的抗蚀剂有 邻叠氮醌型化合物; 负性的有聚乙烯醇肉桂 酸酯。近年来,杜邦等公司又发展了一种干 膜型光致抗蚀膜。它是一种预制的感光性树 脂抗蚀膜,两面分别覆盖0.025mm厚的聚乙 烯薄膜和聚酯膜。使用时,先撕去聚乙烯膜, 通过热压法将感光性树脂紧贴在待刻物件的 表面。从聚酯膜一侧通过掩膜进行曝光,曝 光后撕去聚酯膜进行显影,即可获得所需图 像。它的优点是,可省去物件表面的涂布工 序,使用方便。这类刻蚀工艺的加工,可细 至1/1000mm线条。因此,在半导体器件和 集成电路制作中,具有十分重要的意义。