光致抗蚀剂 (光刻胶) 及其配套化学品

    光致抗蚀剂 (光刻胶) 及其配套化学品 : 光致抗蚀剂又称光刻胶,是一种光敏性高分 子聚合物。当它受到光能照射时分子内部发 生聚合或分解反应,电子工业在微细加工中 利用它的这种特性能得到所需要的几何图 形。光刻胶具有光化学、抗蚀特性和一定的 机械及耐热特性,使用范围已愈来愈广,除 在电子工业使用外,还能用于印刷工业中凸 板的刻蚀、电镀工业中的保护层、精密仪器 加工中的光栅、应力片、钟表加工等。一般 光刻胶由成膜材料、光敏材料、溶剂及添加 剂等组成。光刻胶可按显影后在光刻胶涂膜 上所形成的图形与掩模图形的关系分为正、 负型二种,与掩模图形相合的为正性光刻胶, 反之为负性光刻胶。也可按曝光光源类型分 成紫外光刻胶及辐射光刻胶。在光刻过程中 所使用的显影剂、去膜剂、漂洗剂及稀释剂 统称光刻胶配套化学品。