甲硅烷

    甲硅烷 :

SiH₄ [1]

又称四氢化硅。常 温下为无色气体。可自燃。有令人不 愉快的臭味。400℃时完全分解为硅 和氢。相对分子质量32.14。相对密度 1.44(气)、0.68(-185℃,液)。熔点-185℃。沸点 -111.9℃。临界温度-3.5℃。临界压力48.44× 10⁵Pa。与水反应,在氢氧化钾溶液中分解,不溶 于乙醇、乙醚、氯仿、苯、四氯化硅。与氧混合产 生爆炸。吸入后,头痛、呕吐、刺激气管,有毒!
用途: 用于高纯度硅源及半导体、感光转 鼓、太阳能电池、超大规模集成电路板的硅外 延,用本品代替过去的三氯化硅作外延时,可使 外延层膜薄而均匀生成。复印机的感光硒鼓,在 表面涂一层非晶硅,使图像更清晰,且耐久。
制法:①以硅化镁为原料,硅化镁和溴化 铵(或氯化铵)在液氨中反应,可制得[1]。收率 为70%～80%,副产物仅为百分之几的二 硅烷。

Mg₂Si+4NH₄Br→[1]+2MgBr₂+4NH₃

②在乙醚及四氯化碳中,用强还原剂氢化 铝锂还原四氯化硅,反应在-15～-20℃低温 下进行,可制得[1],收率为70%～80%。

LiAlH₄+SiCl₄→LiCl+AlCl₃+[1]

③歧化反应。将硅粉或四氯化硅、氢一起 在铜催化剂存在下反应,生成氯硅烷,再在催化 剂作用下制得二氯硅烷,再用歧化催化剂从二 氯硅烷制得[1]及三氯硅烷。

3SiCl₄+2H₂+Si→4SiHCl₃
2SiHCl₃→SiH₂Cl₂+SiCl₄
3SiH₂Cl₂→2SiHCl₃+[1]

④Al₄Si₃+12HCl→3[1]+4AlCl₃