光敏热敏记录材料

    光敏热敏记录材料 : 这种记录材料 从图像感光到显影不需要像卤化银摄影材料 那样用溶液处理,利用加热进行干式处理即 可达到目的。这是一种利用化学反应进行记 录的光、热和物理显影的光热静电摄影的记 录方法。
①光、热摄影。采用了钴(Ⅲ)络合物的氧化 还原类的记录材料,是将钴(Ⅲ)络合物如: [Co (NH₃)₆]X₃、[Co(en)₂(NH₃)₂]X₃、[Co (tmd)₂Cl₂]X₃其中X为CF₃COO、CF₃(CH₂)₅ COO,en为乙二胺(H₂NCH₂CH₂NH₂),tmd为 三亚甲基二胺(H₂NCH₂CH₂CH₂NH₂)等可溶 于有机溶剂的络合物与光还原剂(菲醌、蒽醌、 2-异丙氧基-1,4-萘醌等)、螯合剂[PAN= 1-(2′-吡啶基偶氮)-2-萘酚[1]、 PAR=1-(2′-吡啶基偶氮)间苯二酚][2]、氢 给予体(聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛等粘 合剂)共同制成感光层。
用300～400nm的光进行曝光,在100℃下 加热10s,若采用PAN为螯合剂,就可在黄色的 基底上生成绿色的图像。因为采用这种材料利 用氧化还原反应进行热显影可生成放大的图 像。Co(PAN)₂,所以可以得到5×10³erg/cm² 的感度、150线/mm的析像力。定影采用浓盐酸 溶解除去PAN。上述系统为负型记录材料; 如 果将氧化剂(N-溴化琥珀酸亚胺、N-溴化甲 酸亚胺、氯金酸)加在上述感光层上,可减少高 温加热时的过度感光(未曝光部分的绿色化), 在感光层与其他的基底上涂以二氧化硅、粘 土,与其上面吸附金属离子(Ni²⁺、Co³⁺、In³⁺等) 形成涂层,在涂层上密集吸附的受像材料的螯 合剂,从感光层到受像层进行热转印,热转印 温度为140～150℃。在受像层形成正型的金属 螯合物色像,这种方法称为热扩散转移反转显 影,定影也是干处理,正像的析像力为25 线/mm。现在已有利用Te(Ⅳ)化合物干式处 理,生成Te像的非银记录材料,其感光层是将 Te(Ⅳ)化合物(如二氯化双苯甲酰甲基碲[3]、 四氯化碲与苯胺的反应生成物等)、光还原 剂(如菲醌[4]、2-甲基菲醌[5]等)以分子状态 分散到氢给予体的热塑性聚合物中而制得。用 300～400nm的光进行曝光的碲图像。这种碲 图像因粒状或针状的感光层素材和感光条件 不同,在形状方面有所不同。为提高碲(Ⅳ)化合 物的感度,若添加铋或锑的化合物、活性亚甲 基化合物(二甲基巴比士酸、硫代巴比士酸)、四 甲基对二氮苯等可提高效率。

②光、电、热摄影。在热塑性树脂表面使图 像带电,利用电荷的静电引力与热塑性树脂消 光面形成图像的方法已用于全息摄影。这种全 息记录材料由透明导电体、光导电体、热塑性树 脂三层构成,在光导电体中,聚乙烯咔唑(PVC) 一般用2,4,7-三硝基芴酮(TNF)电荷传递络 合物增感和利用结晶紫、孔雀绿等色素进行光 谱增减,记录时可用He-Ne激光。关于热塑性 树脂有磨砂变形的性质,通常采用加氢松脂的 甘油酯和苯乙烯树脂。前者记录特性好,树脂易 被空气氧化; 后者保存性好,需在高压下带电。 记录时,有两种方法: 一为加热使树脂消光变 形; 另一种为用溶剂蒸气软化的方法。后者消 光变形的条件许可范围广、记录感度高(超微粒 卤化银感光材料感度的三分之一)和最大衍射 率高(约20%),在向已固化的树脂上记录的可 能性。记录时,在溶剂蒸气中曝光10～15s,逐渐 带电而感光。与其他感光材料不同的是,这种材 料的特点是与消光皱面空间的频率数相同的频 率播送的图像,全息记录下来,可获得最大的衍 射效率。再者,膜愈薄,愈能得到最大衍射效率, 且空间频率数趋向高频一方(膜厚为0.2μm时为 800线/mm)。