聚乙烯氧乙基肉桂酸酯

    聚乙烯氧乙基肉桂酸酯 : 别名OSR,该胶种曝光时几乎不受氧的影响,因此不 需氮气保护。分辨率可 达1μm左右,灵敏度比 聚乙烯醇肉桂酸酯光刻 胶高1倍,粘附性、耐热 性好,抗蚀能力强,显 影后可在190℃坚膜 30min不变质,感光范 围在250～475μm间、 特别对g线(436nm)敏 感,可用于复印精细线 条、超高频率晶体管、微 波三极管等半导体元件 及中、大规模集成电路 制造,还可用于等离子 腐蚀、等离子去胶等半导体工业的新工艺、新技术中。该胶由2-氯 乙基乙烯基醚与肉桂酸钠在季胺盐存在下反 应制得单体乙烯氧乙基肉桂酸酯,于低温及 三氟化硼-乙醚催化剂作用下进行阳离子聚 合制得。