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三氟化氮
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导读：三氟化氮 : NF3,纯度98%。为无色刺激性气体,微溶于水,熔点-206.8℃、沸点-129℃,液体密度1.533g/ml (-129℃)。在熔融氟化铵存在下,NH3直接氟化,再经冷凝、蒸发纯化可制得98%的产品。本品在微电子工业中可用作等离子蚀刻剂,在高能化学激光器中作为HF/DF的氟源。
三氟化氮 : NF3,纯 度>98%。为无色刺激性气体,微溶于水,熔 点-206.8℃、沸点-129℃,液体密度 1.533g/ml (-129℃)。在熔融氟化铵存在 下,NH3直接氟化,再经冷凝、蒸发纯化可制 得98%的产品。本品在微电子工业中可用作 等离子蚀刻剂,在高能化学激光器中作为 HF/DF的氟源。
